本装置は二基の真空チャンバーをもとに構成されていて、超高真空の成膜チャンバーでは、負金属イオン源を用いて直接成膜を行ったり、成膜された基盤にエキシマレーザ光を照射して、アニーリングを行います。そして、一方の高真空の複合加工チャンバーは、Ａｒ、Ｎ2、等のラジカルビームを照射しながらエキシマレーザ光や、Nd ： YAGレーザ光によるレーザアブレーション、微細加工を行うことができます。また、この装置は高速ビデオカメラを備えており、レーザビームによる高真空状態での、クリーンな材料表面の溶融プロセスや、加工現象の解明ができるようになっています。