レーザ/イオンビーム複合成膜加工装置 

  レーザ/イオンビーム複合成膜加工装置は、新しい組成をもつナノオーダーの薄膜形成と、クリーンな材料表面の加工現象を解明する装置です。

本装置は二基の真空チャンバーをもとに構成されていて、超高真空の成膜チャンバーでは、負金属イオン源を用いて直接成膜を行ったり、成膜された基盤にエキシマレーザ光を照射して、アニーリングを行います。そして、一方の高真空の複合加工チャンバーは、Ar、N2、等のラジカルビームを照射しながらエキシマレーザ光や、Nd : YAGレーザ光によるレーザアブレーション、微細加工を行うことができます。また、この装置は高速ビデオカメラを備えており、レーザビームによる高真空状態での、クリーンな材料表面の溶融プロセスや、加工現象の解明ができるようになっています。

(主な附属装置の規格)
成膜真空チャンバー(誠南工業製) 容積50L 真空度5×10−9 Torr
複合加工真空チャンバー(誠南工業製) 容積40L 真空度1×10−8 Torr
負金属イオン源 NMIBS-CS02(SKION社製) イオン源 Cs  エネルギー 5〜300eV
ラジカルビーム発生器(バキュームプロダクツ製) 高周波出力 13.6MHz 500w
エキシマレーザ COMPex110(ラムダフィジック社製) ArF195nm 出力12w、KrF248nm 出力25w
YAGレーザ JOL-R60(イエナオプティック社製) 波長1.06μm 出力60w